|
|
|
供求信息
> 双面抛光机
[Updated: 2010/08/08] |
|
|
|
|
Click to enlarge image |
|
主要特点:
1、 该机采用四动抛光原理;二电机分别拖动上下抛盘、太阳
轮、内齿圈;PLC调整设定控制;彩色NT显示的人机界面系统。
2、 龙门箱形结构。
3、 与抛光液接触的零部件选用了防腐材料或表面进行了特殊处
理。
4、 通过精密称重传感器与高精密的气动控制系统联合实现了压
力闭环反馈控制,确保了工件压力的准确性。
5、 主要运动副采用了强制集中润滑。
6、 抛光液系统具有独立搅拌、循环水冷却、抛光液加热以及抛
光液温度检测功能,各功能可选配制做。
该设备主要适用于半导体硅片、磁性材料、蓝宝石、光学玻璃、
金属材料及其它硬脆材料的双面高精度高效率的双面抛光加工。
|
|
|
|
|
[联系方式]
|
|
|
|
|
EC21版权所有1997-2009 电话:86-0510-86538635 传真86-0510-86553863
|
|
|
|